網(wǎng)友評(píng)分:
5分
CST Studio Suite 2021中文破解版是由德國 CST 公司研發(fā)的一款專業(yè)電磁仿真軟件,主打高頻、低頻、靜磁等多物理場(chǎng)域的精準(zhǔn)模擬與分析。它整合了多個(gè)專用求解器,覆蓋天線設(shè)計(jì)、射頻組件、電磁兼容(EMC)、信號(hào)完整性等領(lǐng)域,為電子、通信、航空航天等行業(yè)提供從概念設(shè)計(jì)到性能驗(yàn)證的全流程解決方案。軟件采用直觀的 3D 建模環(huán)境與高效的求解算法,既能滿足基礎(chǔ)電磁分析需求,也能應(yīng)對(duì)復(fù)雜系統(tǒng)的多物理場(chǎng)耦合仿真,幫助工程師縮短產(chǎn)品研發(fā)周期、降低物理原型制作成本。無論是小型電子設(shè)備的 EMC 合規(guī)測(cè)試,還是大型航天器的天線性能優(yōu)化,它都能通過精準(zhǔn)的仿真結(jié)果為設(shè)計(jì)決策提供可靠支持,是電磁仿真領(lǐng)域的主流工具之一。該版本內(nèi)置破解補(bǔ)丁,用戶可永久免費(fèi)使用。

1、電磁仿真解決方案
使客戶能夠使用多個(gè)方法(例如有限元方法(FEM),有限積分技術(shù)(FIT)和傳輸線矩陣方法(TLM))訪問多個(gè)電磁(EM)仿真求解器。這些代表了用于高頻仿真任務(wù)的最強(qiáng)大的通用求解器。
2、工作流集成
以其卓越的CAD和EDA數(shù)據(jù)導(dǎo)入功能而聞名。復(fù)雜的修復(fù)機(jī)制可恢復(fù)有缺陷或不合規(guī)數(shù)據(jù)的完整性,這一點(diǎn)尤其重要,因?yàn)榧词挂粋€(gè)損壞的元素也可以阻止整個(gè)部分的使用。
3、電磁設(shè)計(jì)環(huán)境
設(shè)計(jì)環(huán)境是所有模塊使用的直觀用戶界面。它包括一個(gè)3D交互式建模工具,一個(gè)原理圖布局工具,一個(gè)用于電磁求解器的預(yù)處理器以及根據(jù)行業(yè)需求量身定制的后處理工具。
4、自動(dòng)優(yōu)化
為電磁系統(tǒng)和設(shè)備提供了自動(dòng)優(yōu)化例程。可以針對(duì)CST Studio Suite模型的幾何尺寸或材料屬性進(jìn)行參數(shù)設(shè)置。這使用戶可以研究設(shè)備屬性更改時(shí)的行為。
包含幾種本地和全局自動(dòng)優(yōu)化算法。本地優(yōu)化器提供了快速收斂,但存在收斂到局部最小值而不是整體最佳解決方案的風(fēng)險(xiǎn)。另一方面,全局優(yōu)化器搜索整個(gè)問題空間,但通常需要更多計(jì)算。
1、鼠標(biāo)雙擊右鍵解壓軟件壓縮包,然后解壓后壓縮包后獲得安裝包補(bǔ)丁
2、打開CST_Studio_Suite_2021文件夾,雙擊setup依提示安裝
3、填寫安裝信息,隨意任意名字,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
4、選擇安裝位置目錄為C磁盤,修改點(diǎn)擊browse按鈕,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
5、選擇安裝配置,默認(rèn)第一個(gè)為標(biāo)準(zhǔn)typical,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
6、開始程序安裝,并點(diǎn)擊install安裝按鈕開始軟件安裝
7、之后加載軟件,安裝進(jìn)行中
8、安裝完成,先勾選不要打開軟件,等待進(jìn)行軟件破解
9、再安裝Opera,也是依提示安裝即可
9、用記事本方式打開SIMULIA CST License Server下的license.dat許可文件,編輯license.dat文件的第一行,將localhost更改為計(jì)算機(jī)的真實(shí)主機(jī)名和27077主機(jī)ID。
10、復(fù)制破解文件夾CST Studio Suite 2021到CST Studio Suite 2021安裝目錄:C:\Program Files (x86)\
11、然后雙擊運(yùn)行Crack\SIMULIA CST License Server文件夾下“server_install.bat”,自動(dòng)載入后會(huì)關(guān)閉;
11、運(yùn)行程序,CST License Manager將啟動(dòng),其中應(yīng)指定許可證文件的路徑以配置許可證服務(wù)器。
12、再次運(yùn)行該程序,指定許可證服務(wù)器的主機(jī)名和端口號(hào);
13、再次運(yùn)行,已經(jīng)可以正常打開

1、CST MWS
是在時(shí)域仿真高頻器件和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者的快速和精確的三維仿真前沿工具。它可以快速,準(zhǔn)確地分析天線,濾波器,耦合器,平面和多層結(jié)構(gòu)以及SI和EMC效應(yīng)等。
2、CST EM STUDIO
CST EMS是一種易于使用的工具為靜態(tài)和低頻EM應(yīng)用,如馬達(dá),傳感器,致動(dòng)器,變壓器,和屏蔽罩的設(shè)計(jì)和分析。
3、CST PS
已發(fā)展為自由移動(dòng)的帶電粒子完全一致的模擬。應(yīng)用包括電子槍,陰極射線管,磁控管和尾流場(chǎng)。
4、CST CABLE STUDIO
CST CS的信號(hào)完整性和電纜線束的EMC / EMI分析的仿真。
5、CST PCB STUDIO
CST PCBS的信號(hào)完整性和EMC / EMI的EMI的印刷電路板上的模擬。
6、CST MPHYSICS STUDIO
CST MPS為熱和機(jī)械應(yīng)力分析。
7、CST DESIGN STUDIO
CST DS是一款多功能的工具,可以幫助3D EM /電路協(xié)同仿真和綜合。
Alt:鍵顯示關(guān)鍵提示,并使用鍵盤瀏覽功能區(qū)
F1:打開上下文相關(guān)的幫助
F5:更新1D結(jié)果(解算器只在運(yùn)行時(shí))
Ctrl + F5:開始模擬
F7:更新參數(shù)更改
F8:打開組件庫
Ctrl + O:打開新的項(xiàng)目文件
Ctrl + N:切換到文件:新建和最近
Ctrl + S:保存當(dāng)前項(xiàng)目
Ctrl + C:將選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線復(fù)制到剪貼板
Ctrl + Alt + C:將活動(dòng)視圖復(fù)制到剪貼板
Ctrl + V:將剪貼板內(nèi)容粘貼到選擇中
Ctrl + X:將選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線剪切到剪貼板
Ctrl + Y:重做以前撤消的操作
Ctrl + Z:撤消以前的操作
刪除:刪除選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線
空間:將視圖重置為內(nèi)容
Shift +空格:將視圖重置為選擇
快捷鍵在編輯字段中可用
Ctrl + C:將選定的文本復(fù)制到剪貼板
Ctrl + V:將剪貼板粘貼到當(dāng)前標(biāo)記的位置
Ctrl + X:剪切選定的文本
Ctrl + Z:撤消上次編輯操作
導(dǎo)航樹中可用的快捷鍵
F2:重命名選定的對(duì)象
Ctrl +鼠標(biāo)左鍵:釋放鼠標(biāo)按鈕而不是移動(dòng)或鏈接時(shí)復(fù)制拖動(dòng)的項(xiàng)目
Shift +鼠標(biāo)左鍵:除了當(dāng)前選擇的項(xiàng)目之外,選擇被單擊的項(xiàng)目
向上:選擇所選項(xiàng)目上方的項(xiàng)目
下:選擇所選項(xiàng)目下方的項(xiàng)目
Shift +向上:將所選項(xiàng)目上方的項(xiàng)目添加到選擇
Shift +向下:將所選項(xiàng)目下方的項(xiàng)目添加到選擇中
快速鍵在3D建模中可用:(這個(gè)視圖可以通過點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵來激活。)
退出:取消當(dāng)前的活動(dòng)模式
Alt + V:打開查看選項(xiàng)對(duì)話框
Alt + O:從輪廓切換到彩色和黑色輪廓
Alt + W:打開或關(guān)閉工作平面
Ctrl + A:打開或關(guān)閉軸視圖
Ctrl + W:打開或關(guān)閉線框模式
Shift + A:切換場(chǎng)地圖動(dòng)畫
Shift + C:激活切割平面視圖
X:如果激活切割平面視圖,則會(huì)在x平面上進(jìn)行切割
標(biāo)簽
- 打開數(shù)字坐標(biāo)對(duì)話框(也可用于一維圖)
- 突出顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的下一個(gè)形狀(雙擊將選擇當(dāng)前突出顯示的形狀
- 在面部摘取模式下高亮顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下的下一個(gè)面部
Shift + Tab
- 用零缺省值打開數(shù)字坐標(biāo)對(duì)話框
- 突出顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的先前形狀
- 在面部摘取模式下高亮顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的上一個(gè)面部
Numpad-(5)正視圖
Numpad-(3)后視圖
Numpad-(4)左視圖
Numpad-(6)正確的看法
Numpad-(8)頂視圖
Numpad-(2)底視圖
Numpad-(1)捕捉到最接近的對(duì)齊視圖
Numpad-(0)透視圖
Shift + U圍繞u軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
Shift + V圍繞v軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
Shift + W圍繞w軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
剩下遞減階段(2D / 3D圖),向左移動(dòng)軸標(biāo)記(1D圖)
對(duì)增量階段(2D / 3D圖),向右移動(dòng)軸標(biāo)記(一維圖)
向上沿正法線方向移動(dòng)切割平面或網(wǎng)格平面
下沿相反的法線方向移動(dòng)切割平面或網(wǎng)格平面
向上翻頁增加頻率依賴端口模式的可視化頻率
向下翻頁降低頻率依賴端口模式的可視化頻率
ALT + X選擇矢量分量X(2D / 3D圖)
ALT + Y選擇矢量分量Y(2D / 3D圖)
Alt + Z鍵選擇矢量分量Z(2D / 3D圖)
Alt + A鍵選擇矢量分量Abs(2D / 3D圖)
ALT + N選擇矢量分量正常(2D / 3D圖)
Alt + T鍵選擇矢量組件切向(2D / 3D圖)
Ctrl + H隱藏選定的形狀或?qū)ο?/p>
Ctrl + Shift + H顯示選定的形狀或?qū)ο?/p>
Ctrl + U全部取消隱藏
w ^將WCS與最近選定的點(diǎn),邊或面對(duì)齊
P挑選點(diǎn)
中號(hào)挑邊緣中點(diǎn)一個(gè)選擇臉部中心
[R在圈子上挑選點(diǎn)
C選擇圈子中心
?選擇邊緣
F挑臉
Shift + E選擇邊緣鏈
Shift + F選擇臉鏈
d明確的選擇
Ctrl + E打開所選形狀的歷史記錄
Ctrl + T轉(zhuǎn)換選定的對(duì)象
Ctrl + Shift + A對(duì)齊選定的形狀
Ctrl + R刪除選定的功能
Ctrl + Shift + D刪除所選的臉部
Ctrl + Shift + C覆蓋選定的邊緣
Alt + L在兩個(gè)拾取點(diǎn)之間添加線性曲線
Alt + T在兩個(gè)拾取的點(diǎn)和邊之間添加切線
Alt + P在拾取點(diǎn)分割選定的邊緣
退格刪除生成基本形狀的前一個(gè)點(diǎn)。
鍵盤 - (+)為所選形狀啟動(dòng)布爾添加操作
鍵盤 - ( - )開始布爾減去所選形狀的操作
鍵盤 - (*)對(duì)所選形狀啟動(dòng)布爾相交操作
數(shù)字鍵盤 - (?)對(duì)所選形狀啟動(dòng)布爾插入操作
%開始所選形狀的布爾印記操作
#開始選擇曲線的修剪曲線操作
返回執(zhí)行布爾操作(如果有效)
Shift + P打開結(jié)果模板后處理對(duì)話框
一般信息
所有交互式工作流都支持LINUX
新項(xiàng)目預(yù)覽模式,包括項(xiàng)目存檔
過濾選項(xiàng)已添加到導(dǎo)航樹中
用于查找命令、信息和示例的新搜索選項(xiàng)
用于一般項(xiàng)目管理的新Python模塊
增強(qiáng)的一般和圓柱形彎曲特征
系統(tǒng)模擬器:根據(jù)FMI標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)入功能模型單元進(jìn)行模型交換
MPI作業(yè)調(diào)度程序本機(jī)外殼支持
高性能計(jì)算:改進(jìn)的GPU支持:增加了選定的AMDGPU(T)、NVIDIARTX系列和NVIDIANVLink
系統(tǒng)組裝和建模
擴(kuò)展了現(xiàn)有模擬項(xiàng)目的修改選項(xiàng)
改進(jìn)對(duì)收集3D模擬項(xiàng)目元素的支持
通過單擊操作將三維項(xiàng)目轉(zhuǎn)換為裝配項(xiàng)目

嚙合
網(wǎng)格導(dǎo)入:相交三角形的恢復(fù)工具
導(dǎo)入帶曲面網(wǎng)格連接的NVH網(wǎng)格(一)
為了優(yōu)化和掃描,提高了網(wǎng)格移動(dòng)的穩(wěn)定性
后處理新的Python模塊“cst.results”,它可以從文件中訪問0D/1D結(jié)果
新的“結(jié)果2D”VBA對(duì)象易于使用
光線直方圖的改進(jìn)后處理
笛卡爾1D圖形的交互式圖形測(cè)量模式
正交投影中的交互式遠(yuǎn)場(chǎng)圖
加快遠(yuǎn)場(chǎng)合成,避免近場(chǎng)數(shù)據(jù)處理(T,F(xiàn))
新的報(bào)告工具可用于收集屏幕截圖和創(chuàng)建報(bào)告文檔
增強(qiáng)的2D彩色圖形支持等高線、帶和自動(dòng)標(biāo)記
2D/3D圖形中的可定制繪圖單元
高頻模擬
增加了循環(huán)分布式離散面端口(f)
加密CST模型以安全共享數(shù)據(jù)(知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)):添加了FD和TLM解算器
用于計(jì)算電路參數(shù)(局部電阻、電感和電容)的新局部RLC解算器,帶有可選的SPICE推導(dǎo)
允許在波導(dǎo)港口使用表面阻抗材料
開放邊界模擬的性能得到改善(t)
增加了多引腳聚合元件SPICE和Touchstone電路(t,TLM)
增加了連接樹和網(wǎng)格反饋來解決離散化和交集問題(TLM)
飛機(jī)機(jī)身復(fù)合材料蒙皮的改進(jìn)處理(TLM)
將快速降階模型頻域求解器的結(jié)果與四面體網(wǎng)格(f)相結(jié)合
可以在執(zhí)行特征模式分析之后提供模態(tài)加權(quán)系數(shù)
增強(qiáng)了單次靜態(tài)雷達(dá)截面掃描的性能(一)
提高M(jìn)LFMM性能,支持更大的模擬設(shè)置(一)
視野分析(一)
提高了近場(chǎng)和遠(yuǎn)場(chǎng)源的激發(fā)精度
混合求解器任務(wù)
支持在本地域定義的同步激勵(lì)
在S參數(shù)和試金石的推導(dǎo)中加入了參考阻抗支持所有端口激勵(lì)選擇
低頻模擬
提高時(shí)域求解器的性能
根據(jù)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)幾何圖形創(chuàng)建計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)線圈段(LT、JS、LFFD[僅限寬帶])
3D平移運(yùn)動(dòng)
將多驅(qū)動(dòng)場(chǎng)景仿真的機(jī)器仿真序列引入到仿真模型中
根據(jù)FMI標(biāo)準(zhǔn)(LFFD和SAM機(jī)器仿真序列),降階模型以功能模型單元的形式建立
感應(yīng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)場(chǎng)景(SAM電機(jī)模擬序列)
提高機(jī)器驅(qū)動(dòng)場(chǎng)景的評(píng)估性能
使用鐵損數(shù)據(jù)表進(jìn)行鐵損計(jì)算(前端)
永磁體的溫度相關(guān)反沖模型
天線振子
每個(gè)陣列多個(gè)元素
集合中的元素模式
禁用NFS設(shè)置時(shí),將為默認(rèn)設(shè)計(jì)和先前估計(jì)的設(shè)計(jì)計(jì)算NFS。
比較窗口中的值
從宏導(dǎo)出中排除選定的變量。
三個(gè)新天線
迷你3d
(副本6)
在電暈配置中,壓力掃描點(diǎn)可以線性或?qū)?shù)分布
新電暈?zāi)M型:可以分析固定功率下的壓力掃描,知道是否有故障。
Fest3D
向CSTDesignStudio輸出獨(dú)立參數(shù)
增加了基于CST頻域求解器的同軸/介質(zhì)加載腔庫。允許使用矩形和圓柱形空腔
通過BI-RME3D和CST頻域求解器,實(shí)現(xiàn)了三維裝配中網(wǎng)格的可視化
在CSTDesignStudio中將Fest3D項(xiàng)目用作塊
電纜模擬
支持模擬項(xiàng)目中的CSTCableStudio項(xiàng)目
改進(jìn)與3D管理器的連接
自動(dòng)線束和雙絞線的改進(jìn)模擬
提高損耗和屏蔽建模的模擬精度,包括SPICE推導(dǎo)
改進(jìn)的用戶界面:例如,交互式編輯橫截面
電路模擬
所有任務(wù)屬性都可以通過任務(wù)參數(shù)列表提供,原理圖編輯器中還有許多其他改進(jìn)
添加一個(gè)參數(shù)化的數(shù)組塊,它可以用來定義多個(gè)相同的子電路
新的FEST3D項(xiàng)目塊
任務(wù):支持瞬變電磁模擬
SPICE電路文件的加密/解密
LTSPICE仿真器的接口
IdEM
完全支持混合模式參數(shù)的宏建模
新的數(shù)據(jù)集靈敏度分析功能
無源性解決方案通過更有效地表征無源性違規(guī)而得到增強(qiáng)
通過更強(qiáng)大的優(yōu)化器,被動(dòng)執(zhí)行求解器的收斂效果得到了顯著改善
終端端口功能的性能提高
過濾器設(shè)計(jì)器
自動(dòng)三維過濾器設(shè)計(jì)和模型創(chuàng)建
13.電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化導(dǎo)入和印刷電路板仿真
Cadence-Allegro導(dǎo)入支持彎曲和多層信息自動(dòng)將熱源的電阻壓降結(jié)果從印刷電路板導(dǎo)入集成塊
提高3D模式下打開PCB設(shè)計(jì)的性能
新的包組件模型
用于預(yù)布局分析的新型阻抗計(jì)算器
改進(jìn)的電阻壓降模擬:考慮堵塞的過孔
提高了SI/2DTL的模擬精度,如電阻損耗模型和傳統(tǒng)過孔模型,包括SPICE推導(dǎo)
改進(jìn)的用戶界面:例如,用于查看2D/3D結(jié)果和顏色模式的屬性管理器
電路板檢查
按分析類型對(duì)規(guī)則進(jìn)行分類(EMC、si、PI)
添加“電網(wǎng)重疊”規(guī)則
改進(jìn)的串?dāng)_檢查規(guī)則
芯片接口
在引腳位置自動(dòng)創(chuàng)建端口
項(xiàng)目歷史顯示和編輯
通過CadenceVirtuoso插件導(dǎo)出時(shí)保留個(gè)人識(shí)別碼/網(wǎng)絡(luò)信息
由CadenceVirtuoso插件觸發(fā)的基于GDS的工作流的單個(gè)文件設(shè)置
熱模擬
CHT求解器
新的CFD網(wǎng)格類型支持使用非均勻背景網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)網(wǎng)格線在實(shí)體界面上的最佳定位
改進(jìn)的設(shè)置錯(cuò)誤報(bào)告,包括自相交曲面
更快更準(zhǔn)確地從電磁模擬中引入表面損耗
雙電阻器熱收縮模型中支撐表面發(fā)射率和接觸特性
用于為傳統(tǒng)熱解計(jì)算器創(chuàng)建雙電阻器熱收縮模型的宏(THt,THs)
更新了傳熱系數(shù)計(jì)算宏,以計(jì)算給定功率損耗下的表面溫度(THt,THs) CST Studio Suite 2021中文破解版是由德國 CST 公司研發(fā)的一款專業(yè)電磁仿真軟件,主打高頻、低頻、靜磁等多物理場(chǎng)域的精準(zhǔn)模擬與分析。它整合了多個(gè)專用求解器,覆蓋天線設(shè)計(jì)、射頻組件、電磁兼容(EMC)、信號(hào)完整性等領(lǐng)域,為電子、通信、航空航天等行業(yè)提供從概念設(shè)計(jì)到性能驗(yàn)證的全流程解決方案。軟件采用直觀的 3D 建模環(huán)境與高效的求解算法,既能滿足基礎(chǔ)電磁分析需求,也能應(yīng)對(duì)復(fù)雜系統(tǒng)的多物理場(chǎng)耦合仿真,幫助工程師縮短產(chǎn)品研發(fā)周期、降低物理原型制作成本。無論是小型電子設(shè)備的 EMC 合規(guī)測(cè)試,還是大型航天器的天線性能優(yōu)化,它都能通過精準(zhǔn)的仿真結(jié)果為設(shè)計(jì)決策提供可靠支持,是電磁仿真領(lǐng)域的主流工具之一。該版本內(nèi)置破解補(bǔ)丁,用戶可永久免費(fèi)使用。

1、電磁仿真解決方案
使客戶能夠使用多個(gè)方法(例如有限元方法(FEM),有限積分技術(shù)(FIT)和傳輸線矩陣方法(TLM))訪問多個(gè)電磁(EM)仿真求解器。這些代表了用于高頻仿真任務(wù)的最強(qiáng)大的通用求解器。
2、工作流集成
以其卓越的CAD和EDA數(shù)據(jù)導(dǎo)入功能而聞名。復(fù)雜的修復(fù)機(jī)制可恢復(fù)有缺陷或不合規(guī)數(shù)據(jù)的完整性,這一點(diǎn)尤其重要,因?yàn)榧词挂粋€(gè)損壞的元素也可以阻止整個(gè)部分的使用。
3、電磁設(shè)計(jì)環(huán)境
設(shè)計(jì)環(huán)境是所有模塊使用的直觀用戶界面。它包括一個(gè)3D交互式建模工具,一個(gè)原理圖布局工具,一個(gè)用于電磁求解器的預(yù)處理器以及根據(jù)行業(yè)需求量身定制的后處理工具。
4、自動(dòng)優(yōu)化
為電磁系統(tǒng)和設(shè)備提供了自動(dòng)優(yōu)化例程。可以針對(duì)CST Studio Suite模型的幾何尺寸或材料屬性進(jìn)行參數(shù)設(shè)置。這使用戶可以研究設(shè)備屬性更改時(shí)的行為。
包含幾種本地和全局自動(dòng)優(yōu)化算法。本地優(yōu)化器提供了快速收斂,但存在收斂到局部最小值而不是整體最佳解決方案的風(fēng)險(xiǎn)。另一方面,全局優(yōu)化器搜索整個(gè)問題空間,但通常需要更多計(jì)算。
1、鼠標(biāo)雙擊右鍵解壓軟件壓縮包,然后解壓后壓縮包后獲得安裝包補(bǔ)丁
2、打開CST_Studio_Suite_2021文件夾,雙擊setup依提示安裝
3、填寫安裝信息,隨意任意名字,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
4、選擇安裝位置目錄為C磁盤,修改點(diǎn)擊browse按鈕,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
5、選擇安裝配置,默認(rèn)第一個(gè)為標(biāo)準(zhǔn)typical,點(diǎn)next繼續(xù)下一步操作
6、開始程序安裝,并點(diǎn)擊install安裝按鈕開始軟件安裝
7、之后加載軟件,安裝進(jìn)行中
8、安裝完成,先勾選不要打開軟件,等待進(jìn)行軟件破解
9、再安裝Opera,也是依提示安裝即可
9、用記事本方式打開SIMULIA CST License Server下的license.dat許可文件,編輯license.dat文件的第一行,將localhost更改為計(jì)算機(jī)的真實(shí)主機(jī)名和27077主機(jī)ID。
10、復(fù)制破解文件夾CST Studio Suite 2021到CST Studio Suite 2021安裝目錄:C:\Program Files (x86)\
11、然后雙擊運(yùn)行Crack\SIMULIA CST License Server文件夾下“server_install.bat”,自動(dòng)載入后會(huì)關(guān)閉;
11、運(yùn)行程序,CST License Manager將啟動(dòng),其中應(yīng)指定許可證文件的路徑以配置許可證服務(wù)器。
12、再次運(yùn)行該程序,指定許可證服務(wù)器的主機(jī)名和端口號(hào);
13、再次運(yùn)行,已經(jīng)可以正常打開

1、CST MWS
是在時(shí)域仿真高頻器件和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者的快速和精確的三維仿真前沿工具。它可以快速,準(zhǔn)確地分析天線,濾波器,耦合器,平面和多層結(jié)構(gòu)以及SI和EMC效應(yīng)等。
2、CST EM STUDIO
CST EMS是一種易于使用的工具為靜態(tài)和低頻EM應(yīng)用,如馬達(dá),傳感器,致動(dòng)器,變壓器,和屏蔽罩的設(shè)計(jì)和分析。
3、CST PS
已發(fā)展為自由移動(dòng)的帶電粒子完全一致的模擬。應(yīng)用包括電子槍,陰極射線管,磁控管和尾流場(chǎng)。
4、CST CABLE STUDIO
CST CS的信號(hào)完整性和電纜線束的EMC / EMI分析的仿真。
5、CST PCB STUDIO
CST PCBS的信號(hào)完整性和EMC / EMI的EMI的印刷電路板上的模擬。
6、CST MPHYSICS STUDIO
CST MPS為熱和機(jī)械應(yīng)力分析。
7、CST DESIGN STUDIO
CST DS是一款多功能的工具,可以幫助3D EM /電路協(xié)同仿真和綜合。
Alt:鍵顯示關(guān)鍵提示,并使用鍵盤瀏覽功能區(qū)
F1:打開上下文相關(guān)的幫助
F5:更新1D結(jié)果(解算器只在運(yùn)行時(shí))
Ctrl + F5:開始模擬
F7:更新參數(shù)更改
F8:打開組件庫
Ctrl + O:打開新的項(xiàng)目文件
Ctrl + N:切換到文件:新建和最近
Ctrl + S:保存當(dāng)前項(xiàng)目
Ctrl + C:將選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線復(fù)制到剪貼板
Ctrl + Alt + C:將活動(dòng)視圖復(fù)制到剪貼板
Ctrl + V:將剪貼板內(nèi)容粘貼到選擇中
Ctrl + X:將選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線剪切到剪貼板
Ctrl + Y:重做以前撤消的操作
Ctrl + Z:撤消以前的操作
刪除:刪除選定的文本/對(duì)象/結(jié)果曲線
空間:將視圖重置為內(nèi)容
Shift +空格:將視圖重置為選擇
快捷鍵在編輯字段中可用
Ctrl + C:將選定的文本復(fù)制到剪貼板
Ctrl + V:將剪貼板粘貼到當(dāng)前標(biāo)記的位置
Ctrl + X:剪切選定的文本
Ctrl + Z:撤消上次編輯操作
導(dǎo)航樹中可用的快捷鍵
F2:重命名選定的對(duì)象
Ctrl +鼠標(biāo)左鍵:釋放鼠標(biāo)按鈕而不是移動(dòng)或鏈接時(shí)復(fù)制拖動(dòng)的項(xiàng)目
Shift +鼠標(biāo)左鍵:除了當(dāng)前選擇的項(xiàng)目之外,選擇被單擊的項(xiàng)目
向上:選擇所選項(xiàng)目上方的項(xiàng)目
下:選擇所選項(xiàng)目下方的項(xiàng)目
Shift +向上:將所選項(xiàng)目上方的項(xiàng)目添加到選擇
Shift +向下:將所選項(xiàng)目下方的項(xiàng)目添加到選擇中
快速鍵在3D建模中可用:(這個(gè)視圖可以通過點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵來激活。)
退出:取消當(dāng)前的活動(dòng)模式
Alt + V:打開查看選項(xiàng)對(duì)話框
Alt + O:從輪廓切換到彩色和黑色輪廓
Alt + W:打開或關(guān)閉工作平面
Ctrl + A:打開或關(guān)閉軸視圖
Ctrl + W:打開或關(guān)閉線框模式
Shift + A:切換場(chǎng)地圖動(dòng)畫
Shift + C:激活切割平面視圖
X:如果激活切割平面視圖,則會(huì)在x平面上進(jìn)行切割
標(biāo)簽
- 打開數(shù)字坐標(biāo)對(duì)話框(也可用于一維圖)
- 突出顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的下一個(gè)形狀(雙擊將選擇當(dāng)前突出顯示的形狀
- 在面部摘取模式下高亮顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下的下一個(gè)面部
Shift + Tab
- 用零缺省值打開數(shù)字坐標(biāo)對(duì)話框
- 突出顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的先前形狀
- 在面部摘取模式下高亮顯示鼠標(biāo)光標(biāo)下方的上一個(gè)面部
Numpad-(5)正視圖
Numpad-(3)后視圖
Numpad-(4)左視圖
Numpad-(6)正確的看法
Numpad-(8)頂視圖
Numpad-(2)底視圖
Numpad-(1)捕捉到最接近的對(duì)齊視圖
Numpad-(0)透視圖
Shift + U圍繞u軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
Shift + V圍繞v軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
Shift + W圍繞w軸旋轉(zhuǎn)局部坐標(biāo)系+ 90°
剩下遞減階段(2D / 3D圖),向左移動(dòng)軸標(biāo)記(1D圖)
對(duì)增量階段(2D / 3D圖),向右移動(dòng)軸標(biāo)記(一維圖)
向上沿正法線方向移動(dòng)切割平面或網(wǎng)格平面
下沿相反的法線方向移動(dòng)切割平面或網(wǎng)格平面
向上翻頁增加頻率依賴端口模式的可視化頻率
向下翻頁降低頻率依賴端口模式的可視化頻率
ALT + X選擇矢量分量X(2D / 3D圖)
ALT + Y選擇矢量分量Y(2D / 3D圖)
Alt + Z鍵選擇矢量分量Z(2D / 3D圖)
Alt + A鍵選擇矢量分量Abs(2D / 3D圖)
ALT + N選擇矢量分量正常(2D / 3D圖)
Alt + T鍵選擇矢量組件切向(2D / 3D圖)
Ctrl + H隱藏選定的形狀或?qū)ο?/p>
Ctrl + Shift + H顯示選定的形狀或?qū)ο?/p>
Ctrl + U全部取消隱藏
w ^將WCS與最近選定的點(diǎn),邊或面對(duì)齊
P挑選點(diǎn)
中號(hào)挑邊緣中點(diǎn)一個(gè)選擇臉部中心
[R在圈子上挑選點(diǎn)
C選擇圈子中心
?選擇邊緣
F挑臉
Shift + E選擇邊緣鏈
Shift + F選擇臉鏈
d明確的選擇
Ctrl + E打開所選形狀的歷史記錄
Ctrl + T轉(zhuǎn)換選定的對(duì)象
Ctrl + Shift + A對(duì)齊選定的形狀
Ctrl + R刪除選定的功能
Ctrl + Shift + D刪除所選的臉部
Ctrl + Shift + C覆蓋選定的邊緣
Alt + L在兩個(gè)拾取點(diǎn)之間添加線性曲線
Alt + T在兩個(gè)拾取的點(diǎn)和邊之間添加切線
Alt + P在拾取點(diǎn)分割選定的邊緣
退格刪除生成基本形狀的前一個(gè)點(diǎn)。
鍵盤 - (+)為所選形狀啟動(dòng)布爾添加操作
鍵盤 - ( - )開始布爾減去所選形狀的操作
鍵盤 - (*)對(duì)所選形狀啟動(dòng)布爾相交操作
數(shù)字鍵盤 - (?)對(duì)所選形狀啟動(dòng)布爾插入操作
%開始所選形狀的布爾印記操作
#開始選擇曲線的修剪曲線操作
返回執(zhí)行布爾操作(如果有效)
Shift + P打開結(jié)果模板后處理對(duì)話框
標(biāo)簽: CST Studio Suite 建模軟件 電磁仿真
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